物理气相沉积

在真空中将蒸发材料加热汽化或以高速离子轰击使靶材原子或分子逸出并在工件表面上沉积，形成镀膜层的工艺技术。它可提高材料抗腐蚀、抗高温氧化、耐磨性能，还可赋予材料全新的表面，使材料具有声、光、磁、电的转换和存储性能等，是表面工程技术中极为重要的工艺技术之一。由于电子束、激光束、离子束引入PVD，显著地提高了PVD的功能，不仅可以沉积各种金属膜层，还可以沉积碳化物、氮化物、硅化物和氧化物膜层；不仅具有沉积速率高（大于10μm/min)，原材料易于更换，还可以沉积多元膜层或复合膜层。PVD工艺发展很快，可以分为三类：(1)蒸镀；(2)溅射；(3)离子镀，如图所示。PVD近来的新发展是分子束外延（MBE)、化学束外延（CBE)、金属有机分子束外延（MOMBE）和激光分子束外延（L-MBE) 。 PVD已广泛用于微电子和光电子工业及航空、航天等高技术领域，用以制备各种微电子和光电子功能薄膜，以及耐高温、抗氧化、防腐蚀、耐磨损、装饰包装用薄膜或涂层。